Ando Lab, Keio University

スパッタリング装置
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真空低温・高周波マニュアルプローバー
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レーザー描画装置・レーザー顕微鏡
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物理特性測定システム+He再凝縮装置（1.9 K~400 K, 14 T）・電子スピン共鳴装置・電気測定系
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